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苏大维格【苏大维格】苏大维格是从事微纳技术领域研发与製造的高技术企业 。苏大维格致力于行业共性技术与关键设备的开拓创新，高端微纳图形化直写设备、微纳材料研发，推进新型显示、照明与成像行业的产业套用 。
基本介绍公司名称：苏大维格
外文名称：Suda Weige
占地面积：110亩
建筑面积：4万平米
股票代码：300331
公司简介苏大维格作为从事微纳技术领域研发与製造的高技术企业，苏大维格致力于行 业共性技术与关键设备的开拓创新，高端微纳图形化直写设备、微纳材料研发，推进新型显示、照明与成像行业的产业套用 。10年来的发展，苏大维格成为A股深交所创业板上市企业（300331）。建有国家工程研究中心等研发创新平台 。第一厂区（ 1.3万平米），苏州工业园区钟南街478号 。其中，维格光电主营无缝镭射包材、定製化全息印 材、3D成像与光学防伪转移材料、防伪烫金箔 。维旺科技：建有中大尺寸超薄导光板（膜）产线 。主营：超薄导光板（膜）、定向扩散增亮膜等微光学器件 。具有独立的光学设计、模具製备、评测和量产能力 。套用于：平板电脑、智慧型手机，背光键盘、家电、汽车的LED超薄背光照明 。第二厂区（2.7万平米）： 苏州工业园新昌街18号 。公司总部、国家地方联合工程研究中心、新品中试平台设在第二厂区 。建有工程化的宽幅微纳米加工与製造研发设施与规模化製造能力 。主营：1、公共安全解决方案：证卡防伪材料（变色Color-shift）、动态光学放大膜AMOS） 。2、微纳仪器设备：高速紫外雷射图形化直写设备、纳米图形化光刻设备、柔性纳米压印设备、雷射签注防伪系统；3、3D成像材料与器件等 。4、大尺寸透明导电薄膜（触控感测器膜）产线、LED纳米图形化试验基地设在第二厂区 。发展历程2001年底，苏州苏大维格数码光学有限公司SVG DigitOptics在苏州工业园区国际科技园注册 。2002年5月，正式投入运营 。
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成立初期，致力于“数码雷射全息製版系统HoloMaker series”研发、雷射全息製版技术服务、光学防伪解决方案、产业化套用 。其中，HoloMaker成为中国、香港及韩国、印度等的雷射全息行业关键设备，成功促进了中国光学防伪与包装行业技术进步 。为此，02年初，获中华人民共和国科技进步二等奖，这是中国雷射全息行业颁发最高奖项 。公司创始人、董事长是中国光学全息工程领域的着名专家，兼任中国光学学会光信息处理与全息专业委员会主任 。2003-2004年，研製成功“定向光变色膜（OVCF）”原版製造技术，成功套用于我国第二代身份证的物理视读膜 。同年，研发成功大型纳米压印设备（平压平和卷对卷） 。2005年，自主研发并建立了中国首条“定位镭射转移材料生产线”，开创了“定位镭射印刷转移纸张”在菸草印刷包装上的套用先河，“定位雷射转移纸张”获得中国专利授权 。同年，公司获江苏省高新技术企业认定，通过ISO9001质量管理体系认证 。取得了一批雷射光刻领域的发明专利权 。2006年，成立“江苏省数码雷射成像与显示工程研究中心”（科技厅、财政厅批准），主要致力于超精密雷射图形关键製造技术（光刻、直写、刻蚀）和装备、新型平板显示背光模组关键材料、光学防伪解决方案、手机导光薄膜等製造技术的研发与套用 。2006年，研製成功“宽幅智慧型雷射SLM光刻设备工程样机并投入套用，首家实现了大幅面、高速度的亚微米全息图像的快速光刻，多项中国发明专利授权 。企业获“苏州工业园区十佳科技创新小巨人”、“2004-2006年度苏州工业园区民营科技创新十强企业”称号 。2007年，建立苏州工业园区博士后工作站维格分站 。建立镭射转移膜产能；研製成功HoloScanV紫外雷射干涉光刻设备，这是国际上领先水平的亚微米雷射直写系统 。苏大维格具有了国际一流的超精密图形的设计与製造能力 。2007年，研製成功“DMD并行雷射光刻系统MicroLab”，具有超过10,000dpi的图形解析度，主要套用于精密图形设计製造（导光结构、亚微米图形），研发成功手机导光薄膜（LGF），并成立苏州维旺科技有限公司，专注于手机及平板显示光学材料研发与製造 。2008年8月，苏大维格数码光学有限公司改制成为“苏州苏大维格光电科技股份有限公司”SVG Optronics，将业务领域扩大到“镭射转移材料”、“平板显示材料”、“高端光学防伪解决方案”和“先进制造装备”（超精密图形雷射光刻设备，纳米压印工艺设备、LIGA技术套用等” 。配合公安部相关研究院所研发DMD双通道光变色膜，在我国“新驾驶证”“机动车行驶证”上全面套用 。2008年9月，苏大维格的“宽幅智慧型雷射SLM光刻系统与套用”荣获江苏省科技进步一等奖（全省第一名） 。2008年11月，苏大维格入选“苏州市50家首批科技创新试点企业” 。研发成功“导光薄膜”并套用于手机keypad 。配合国家邮政印製局推出首套採用“定位镭射图形”29届北京奥运会开幕式纪念邮票等（Stamp in commenoration of Openning ceremony of XXIX Beijing Olympic） 。2009年3月，HoloMakerIII-b出口日本；研製成功“无缝彩虹膜压印设备和彩虹膜材料；大型无缝镭射薄膜压印设备出口印尼等国 。2009年4月，“雷射直写设备iGrapher200”投入套用，具有350nm以上图形直写能力，支持複杂微结构图形製造 。2009年5月，研製成功“微透镜阵列光学薄膜”，建立了微透镜阵列的批量製造能力 。这是中国第一个集微透镜阵列薄膜研发与製造能力的单位 。研製成功具有突破意义的“ActiveMatrix”动态图形光学防伪薄膜，拟用于高层（公安、金融等）防伪领域 。2009年7月，苏大维格的“微镜Fresnel技术”套用于茅台“白金酒”防伪包装 。2010年5月，研製成功双面UV微纳结构动态光学放大膜 。2010年10月，研製成功超大幅面（1500mmx1300mm）雷射图形化设备，填补了行业空白 。主营产品类定製化光学（镭射）包印材定製化雷射转移材料 导光专用烫金箔（电化铝）镭射（光学全息）版纹展示显示照明光学材料器件超薄导光板、新型透明导电膜3D显示、成像、增亮光学膜光学防伪解决方案品牌产品高端光学防伪微纳图形化製造与纳米压印设备微图形化：无掩膜雷射直写纳米图形化：紫外雷射混合光刻雷射全息製版系统卷对卷纳米压印设备雷射原版与微纳器件製备微纳结构样品展示