1、光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机 ， 曝光系统，光刻系统等 。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.
【光刻机是什么 光刻机是什么时候发明的】2、一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序 。

3、Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；
4、在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程 。

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